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WAFER CLEANER 977, 977L

精簡且高效的清潔解決方案,提升您的操作效率。ADT 977 晶圓清洗系統專為在切割過程後清洗工件而精心設計。
配備可調節的旋轉清潔臂,並提供霧化或高壓清潔噴嘴,以應對廣泛的清潔需求。

相關文件

特點與優勢

  • 霧化/高壓清潔
  • 自動蓋子閉合
  • 直觀的控制面板
  • 過程監控
  • 緊湊的設計
  • 堅固、無振動
  • 環保設計
  • 可編程序列控制

技術規格

977- 200977L - 300
Max workpiece sizeØ 8" Ø 12" or 12"x12" square
Cleaning methodAtomizing cleaning/
High pressure cleaning
Atomizing cleaning/
High pressure cleaning
Number of recipes that can be saved2020
Spinner velocity range200–3000 rpm200–2500 rpm
Machine dimensions (WxDxH)410 x 625 x 946 mm570 x1250 x 1073 mm
Approx. machine weight120 kg200 kg

選項

  • 二氧化碳注入
  •  水電阻率監控
  • 離子發生器
  • 表面活性劑附加噴嘴和水箱
  • 無膠帶清潔