WAFER CLEANER 977, 977L
精簡且高效的清潔解決方案，提升您的操作效率。ADT 977 晶圓清洗系統專為在切割過程後清洗工件而精心設計。
配備可調節的旋轉清潔臂，並提供霧化或高壓清潔噴嘴，以應對廣泛的清潔需求。
相關文件
特點與優勢
- 霧化/高壓清潔
- 自動蓋子閉合
- 直觀的控制面板
- 過程監控
- 緊湊的設計
- 堅固、無振動
- 環保設計
- 可編程序列控制
技術規格
| 977- 200 | 977L - 300 | |
| Max workpiece size | Ø 8" | Ø 12" or 12"x12" square |
| Cleaning method | Atomizing cleaning/ High pressure cleaning | Atomizing cleaning/ High pressure cleaning |
| Number of recipes that can be saved | 20 | 20 |
| Spinner velocity range | 200–3000 rpm | 200–2500 rpm |
| Machine dimensions (WxDxH) | 410 x 625 x 946 mm | 570 x1250 x 1073 mm |
| Approx. machine weight | 120 kg | 200 kg |
選項
- 二氧化碳注入
- 水電阻率監控
- 離子發生器
- 表面活性劑附加噴嘴和水箱
- 無膠帶清潔
